金属レジネート

金属レジネートとは金属の有機化合物(あるいはそれを含む溶液)の別称であり、用途は単一金属膜あるいは合金膜(Au, Pt)や酸化物膜(Ru, Pd)のコーティング原料、金属の微量添加剤などとして利用されています。

低温~高温まで幅広い温度焼成が可能で微量成分添加や薄膜コーティングに最適な硫黄フリー・ハロゲンフリーの有機金属化合物です。各種塗布方法にも対応でき、サブミクロンレベルの薄膜を形成します。

弊社では特に触媒・電極として有用な白金族金属のレジネートを幅広く検討し、その溶液及びそれをベースとする金属ペーストを提供しています。

次のような特徴を持ちます。

  • 硫黄ハロゲンフリー
    分解時の腐食性ガスの発生を抑止し、相手材料の汚染・変質、生産設備の腐食劣化や周囲環境の汚染を防止
  • 薄膜コーティングに最適
    溶液として添加できるので分子オーダーの完全均一混合が容易、またその溶液によりナノメータオーダーの薄膜のコーティングも可能
  • 幅広い温度焼成
    化合物の熱分解による微粒金属析出を利用するので、低温で焼結し均一な金属膜が得られる。焼結防止剤を利用することで高温化も可能

製品詳細

次の表に掲げる白金族金属化合物の溶液を提供できます。表中の使用溶媒や金属濃度はひとつの例です。有機溶媒への高い溶解度をもっており、幅広い対応が可能ですのでご相談ください。

金属種金属濃度(%)溶 媒分解温度(℃)用途例
Ru6イソブタノール200-290添加剤・触媒
Rh7ブチルカルビトール130-250添加剤、触媒
Pd8酢酸ブチル200-250添加剤・触媒
Pt10酢酸ブチル140-300添加剤・触媒
(Au)------160-400Au電極膜

上記有機金属化合物(レジネート)をベースとして得られる金ペーストの例とその諸元を次表に示します。

品番Au-2201Y-10
金属含量22%
粘度50Pa・s
使用溶剤ブチルカルビトール
焼成膜強度5H(鉛筆硬度計)
焼成温度350℃~850℃
特徴焼成温度範囲が広い
使用ペーストAu-2201Y-10
印刷条件SUS 325メッシュ
乾燥条件100℃ 10分
焼成温度750℃600℃350℃
使用基板グレーズ基板ガラス基板ポリイミドフィルム
焼成条件昇温時間60分
10分キープ
昇温時間50分
10分キープ
昇温時間40分
30分キープ
焼成後厚み0.2μm0.2μm0.2μm
面抵抗値110mΩ/□140mΩ/□270mΩ/□
比抵抗値2.2×106Ωcm2.8×106Ωcm5.4×106Ωcm